Deposición de películas delgadas mediante plasmas de baja energía

Abstract

En el presente trabajo de investigación se desarrolló un método para la deposición de películas delgadas a base de Carbón (CNx) y de óxidos metálicos (Cu2O) a través de una descarga eléctrica a baja presión haciendo uso de una fuente pulsada. Para la síntesis de películas a base de carbón se utilizó un hidrocarburo mezclado con un gas reactivo (CH3CH2OH/N2), donde el CH3CH2OH actúa como una fuente de carbón y al interaccionar con las especies del N2 pueden formar radicales CN los cuáles son depositadas sobre la superficie de un metal en forma de película delgada.