Thin film deposition of nitrided amorphous carbon by laser ablation

dc.creator	Camacho Lopez, M. A.
dc.creator	Rebollo, B.
dc.creator	Camps, E.
dc.creator	Muhl, S.
dc.creator	Escobar, L.
dc.creator	Haro Poniatowski, E.
dc.date	2000
dc.date.accessioned	2022-10-01T00:49:55Z
dc.date.available	2022-10-01T00:49:55Z
dc.identifier	http://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94201106
dc.identifier	1665-3521	es
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/20.500.11799/135670
dc.description	"Thin films of amorphous carbon (a-C) were grown by laser ablation in a nitrogen atmosphere at pressures from 4.5x10-4Torr to 7.5x10-2 Torr. The structural properties of the films were studied by Raman spectroscopy. The obtained spectrawere similar to tho
dc.format	application/pdf
dc.language	en
dc.publisher	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
dc.relation	http://www.redalyc.org/revista.oa?id=942
dc.rights	Superficies y vacío
dc.source	Superficies y vacío (México) Num.11
dc.subject	Física, Astronomía y Matemáticas
dc.subject	Thin films
dc.subject	Laser ablation
dc.subject	Carbon nitride
dc.subject	Raman Spectroscopy
dc.title	Thin film deposition of nitrided amorphous carbon by laser ablation
dc.type	Artículo

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